三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

產(chǎn)品名稱(chēng)：三氧化二硼硼硅片
產(chǎn)品型號:PWB2
產(chǎn)品規格：100*4mm
微晶玻璃片狀擴散源
使用說(shuō)明書(shū)
一 前言
PWB－硼微晶玻璃片狀擴散源是一種的擴散源，它適用于半導體元器件和集成電路的硼擴散工藝，具有穩定性、均勻性，目前已被半導體行業(yè)應用。

三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

二 規格與參數
（1）規格
PWB1淡硼 PWB2濃硼
特殊規格 Φ40*1.5mm 特殊規格 Φ40*2.5mm
特殊規格 Φ45*1.5mm 特殊規格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm
3英寸 Φ76.2*3mm 3英寸 Φ76.2*3mm
4英寸 Φ100*4mm 4英寸 Φ100*4mm
（2）參數
PWB1淡硼 PWB2濃硼
硼含量 B2O3≥43％ B2O3≥45％
膨脹系數 49*10-7＋3*10-7/℃（20℃～400℃）
擴散溫度 900℃～1050℃
方塊電阻 RS≥30Ω/□ RS≥15Ω/□
（根據其他條件不同，RS值可以有所差異）
三 使用說(shuō)明
（一）源片清洗方法
主要是去-除源片表面所沾染的雜質(zhì)。有以下兩種方法：
（1） A 用丙酮棉花擦洗表面后，在乙醇中漂洗2～3秒；
B 用50℃～60℃的去離子水沖洗1～2分鐘；
C 冷去離子水沖洗10～15分鐘；
D 用紅外燈烘4～5小時(shí)。
（2） A 用丙酮與乙醇棉花先后擦洗源片正反兩面及四周；
B 用50℃～60℃的去離子水沖洗1～2分鐘；
C 冷去離子水沖洗10～15分鐘；
D 用紅外燈烘4～5小時(shí)。
源片的清洗和烘干應連續進(jìn)行，在紅外燈烘干的過(guò)程中，如源片出現發(fā)黑現象，說(shuō)明有-機溶劑未沖洗干凈，烤源時(shí)通少量氧氣，即可除-去。
經(jīng)清洗和烘干以后的源片，即可放入石英管中隨爐升溫烤源。